ОПТИМИЗАЦИЯ ПРОЦЕССОВ НАПЫЛЕНИЯ МЕДИ И ХРОМА МЕТОДОМ ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ В ВАКУУМЕ

dc.contributor.author	С.М. Горбатюк, профессор, д-р техн. наук, И.Г. Морозова, доцент, канд. техн. наук, А.Н. Пашков, аспирант Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС",
dc.date.accessioned	2014-04-29T08:30:11Z
dc.date.available	2014-04-29T08:30:11Z
dc.date.issued	2014
dc.identifier.citation	Вестник СевГТУ.- Севастополь: Изд-во СевНТУ, 2014.- Вып. 150: Машиноприборостроение и транспорт.- С.	ru, en_US, uk
dc.identifier.uri	http://lib.sevsu.ru/xmlui/handle/123456789/10189
dc.description.abstract	Работа посвящена вопросам, связанным с нанесением пленок меди и хрома на диэлектрические подложки методом термического испарения в вакууме из резистивного испарителя на установке УВН-71П-3.	ru, en_US, uk
dc.publisher	Севастопольский национальный технический университет	ru, en_US, uk
dc.title	ОПТИМИЗАЦИЯ ПРОЦЕССОВ НАПЫЛЕНИЯ МЕДИ И ХРОМА МЕТОДОМ ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ В ВАКУУМЕ	ru, en_US, uk